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Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

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Vakuumbeschichtungs-Chrom-Spritzenziel

Vakuumbeschichtungs-Chrom-Spritzenziel

Durchmesser 140mm/D60mm /57mm der hoher Reinheitsgrad-Zirkonium-Spritzenziel-Zr702

Durchmesser 140mm/D60mm /57mm der hoher Reinheitsgrad-Zirkonium-Spritzenziel-Zr702

korrosionsbeständiges Spritzenziel des Chrom-7.19g/cm3

korrosionsbeständiges Spritzenziel des Chrom-7.19g/cm3

CHINA Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. zertifizierungen
CHINA Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. zertifizierungen
Zhengzhou Sanhui ist Berufspartner mit ausgezeichneter Qualität und warmem Service.

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Wir schätzen Ihre langfristige Zusammenarbeit mit Qualitätssicherung und fristgerechter Lieferung. Und Dank ein Los für Ihre nette Unterstützung bis 2020.

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CHINA Metallisches korrosionsbeständiges Chrom-Ziel distributeur
Metallisches korrosionsbeständiges Chrom-Ziel

Spritzenziele

(17)
CHINA Metallisches korrosionsbeständiges Chrom-Ziel usine

Metallisches korrosionsbeständiges Chrom-Ziel
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Hoher Reinheitsgrad-silbernes gutes Korrosionsbeständigkeits-Chrom-Ziel, silbernes Spritzenziel Allgemeine Informationen des Chrom-(Cr): Chrom ist eins der populärsten Metalle in der Welt. Chrom ist ein ... Lesen Sie weiter
2022-08-17 15:47:32
CHINA Hoher Reinheitsgrad-helle Oberflächentantal-Spritzenziele usine

Hoher Reinheitsgrad-helle Oberflächentantal-Spritzenziele
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99,99% Tantal-Spritzenziel des hoher Reinheitsgrad-Durchmesser-25-400 1. Produktname Tantal-Ziel 2. Reinheit 99.9~99.99% 3. Standard-ASTM B708 4. Stärke 0.8mm - 30mm 5. Anwendung verwendet für zahlreiche ... Lesen Sie weiter
2022-08-05 14:47:50
CHINA Hoher Reinheitsgrad 99,99% ITO Targets In 2O3: SnO2 90:10 WT % usine

Hoher Reinheitsgrad 99,99% ITO Targets In 2O3: SnO2 90:10 WT %
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Hoher Reinheitsgrad 99,99% ITO Targets In 2O3: SnO2=90: 10 WT % Anwendung Im Hinblick auf Anwendung wird transparentes leitfähiges Filmglas ITO hauptsächlich auf LCD-Gebiet, industriellem Feld, Transport und ... Lesen Sie weiter
2022-08-03 16:35:16
CHINA Polier-/Nickel-Vanadium-Spritzenziele der Schleiffläche-Niv7 usine

Polier-/Nickel-Vanadium-Spritzenziele der Schleiffläche-Niv7
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Kundengebundenes Polier- oder Vanadiumspritzenziel des Nickels NiV7 des hohen Reinheitsgrades 99,95 der Schleiffläche Anweisung des Nickel-Vanadium-Spritzenziels: Spritzenziel des Nickel-Vanadiums (NiV7wt%)Verf... Lesen Sie weiter
2022-07-25 15:23:56
CHINA Hoher Reinheitsgrad 99,99% Min Magnesium Sputtering Target Ground usine

Hoher Reinheitsgrad 99,99% Min Magnesium Sputtering Target Ground
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99,99% Min Magnesium Sputtering Targets Ground Material: Magnesium/Mg Verfügbare Reinheit: 99,9%, 99,95%, 99,99% Größe: besonders angefertigt Anwendung: PVD-Beschichtung Produkt-Name Reinheit Dichte Oberfläche ... Lesen Sie weiter
2022-07-14 14:41:03
CHINA Aluminiumlegierung Chromes AlCr Spritzenziele für Beschichtung des Vakuummagnetische Steuerpvd usine

Aluminiumlegierung Chromes AlCr Spritzenziele für Beschichtung des Vakuummagnetische Steuerpvd
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Aluminium--Chromiunlegierung AlCr Spritzenziele für Beschichtung des Vakuummagnetische Steuerpvd Ziele des Aluminium-Chroms (AlCr) reagieren mit Stickstoff während der reagierenden Absetzung, um superhard ... Lesen Sie weiter
2022-06-17 18:32:07
CHINA Hoher Reinheitsgrad-Metallspritzenziele des Zirkonium-Zr702 usine

Hoher Reinheitsgrad-Metallspritzenziele des Zirkonium-Zr702
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Hoher Reinheitsgrad-Metallspritzenziele des Zirkonium-Zr702 Zirkonium ist ein aktives Metall mit einer großen Affinität für Sauerstoff, und die ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit der Oxidschicht bestimmt, ... Lesen Sie weiter
2022-04-15 16:06:53
CHINA 99.95%-99.99% visiert das spritzende Tantal RO5200 hoher Reinheitsgrad-helle Oberfläche an usine

99.95%-99.99% visiert das spritzende Tantal RO5200 hoher Reinheitsgrad-helle Oberfläche an
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99.95%-99.99% hoher Reinheitsgrad-helle Oberflächentantal-Spritzenziele 1. Produktname Tantal-Ziel 2. Reinheit 99.95~99.99% 3. Standard-ASTM B708 4. Stärke 0.8mm - 30mm 5. Anwendung verwendet für zahlreiches ... Lesen Sie weiter
2022-04-07 11:18:39
CHINA 99,99% Aluminiumvakuummagnetron-Spritzenziele für PVD-Beschichtung usine

99,99% Aluminiumvakuummagnetron-Spritzenziele für PVD-Beschichtung
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99,99% Aluminiumvakuummagnetron-Spritzen verwendet für PVD-Beschichtung Einleitung: Produktmaterial 99,99% Al Spezifikationen Rund, rechteckig. speziell-förmig Prozess Vakuummagnetschwebetechnikschmelzencasting ... Lesen Sie weiter
2022-01-05 14:14:04
CHINA Beschichtungs-Material-Zirkonium des Metall6.51g/cm3 99,9% Spritzenziele usine

Beschichtungs-Material-Zirkonium des Metall6.51g/cm3 99,9% Spritzenziele
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Das spritzende Spritzenziel-Metall visiert 99,9% hoher Reinheitsgrad-Beschichtungs-Material-Zirkonium-Spritzenziele an Spritzenziele: Stärke: 0,04 bis 1,40“ (1,0 bis 35mm). Breite bis 20" (50 bis 500mm). Länge: ... Lesen Sie weiter
2021-12-29 11:40:19
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TZM-Legierung

Der hohen Temperatur Titanlegierungs-Platte u. Blatt des zirkonium-Molybdän-TZM

Ofen TZM der hohen Temperatur Vakuumlegieren Molybdän-Legierung ASTM B387

Legierungs-Platten-Komponenten des Molybdän-TZM angewendet als Funktionsmaterial

Molybdän-Legierung TZM Rod des hohen Reinheitsgrad-99,95% mit Länge 30~3000mm

Molybdän maschinell bearbeitete Teile

Reiner nahtloser Molybdän-Tiegel Durchmessers 38.5mm angewendet in Vaporations-Beschichtung

99,95% Molybdän maschinell bearbeitete Teil-reine Molybdän-Platte für Vakuumofen

Ofen-Molybdän maschinell bearbeitete Teile hoher Temperatur ASTM B387

Hochleistung Ion Source Head Tungsten und Molybdän kundengebundene Komponenten

Wolframschwere Legierung

99,95% Wolframplatten-Wolframfolie mit rollender Grundoberfläche

W90NiFe-Wolframschwere Legierungs-Teile mit Dichte von schwachem magnetischem 18g/Cm3

W95NiFe-Wolframnickel-eisen-Legierung für Abschirmungs-Gerät

Schwere Legierung maximaler 18.5g/cm3 W90NiFe W97NiFe Wolframfür Form der hohen Temperatur

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